AI半導体製造の鍵、ASMインターナショナルに注目

AI（人工知能）半導体製造の進化において、微細化技術の進展が新たな局面を迎えています。特に、次世代トランジスタである「ゲートオールアラウンド（GAA）ナノシート」への移行は、半導体製造装置メーカーにとって大きなビジネスチャンスとなっています。この分野で、オランダに本社を置くASMインターナショナル（ASMIY）が、その中核技術である原子層堆積（ALD）とエピタキシー（EPI）を武器に、AI半導体製造の「料金所」とも言える重要な役割を担うと見られています。

GAAナノシート構造は、従来のFinFET構造に比べて、より微細な回路を形成し、電力効率と性能を向上させることができます。この新しい構造を実現するためには、ウェハー1枚あたりの成膜プロセス（デポジション）の重要性が増しており、ASMインターナショナルが提供するALD技術は、原子レベルで精密な膜厚制御を可能にするため、この需要増の恩恵を受けることが期待されています。

ASMインターナショナルの業績見通しも堅調です。同社は、2026年の売上高が41億ユーロ超、2027年にはベースケースで50億ユーロに達すると予測しています。これは、強力な受注残高に支えられており、特に最先端プロセスノードやメモリ分野での顧客獲得が、同社のコア技術であるALDとEPIの強みを活かした持続的な成長につながると考えられています。

アナリストは、ASMインターナショナルの現在の株価水準での買いを推奨しており、目標株価を1,080ユーロ（ユーロ建て）としています。この目標株価は、今後の販売拡大と、粗利益率が50%近辺で推移することが達成されるという条件付きです。

半導体業界、特にリソグラフィー（露光）技術に関する議論では、製造における多くの課題がプロセスの異なる部分へと移行している側面が見過ごされがちです。半導体メーカーは、従来の製造プロセスから、より高度な技術へとシフトしており、その中でASMインターナショナルのような、精密な成膜技術を持つ企業の重要性が増しています。